所屬分類:等離子去膠機(jī)
可有效去除表面殘留物、介質(zhì)與介質(zhì)間光阻去除
RIE Plasma去膠機(jī)適用于碳化硅刻蝕、表面殘留物清除、氧化硅或氮化硅刻蝕等,腔體適用于4-8寸樣品。